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宽波段正胶是全球经典高精度光刻胶，分辨率，染料版适配高反射基底，环保低毒工艺稳定，广泛用于成熟制程功……
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陶氏正胶剥离液是刻蚀后专用低腐蚀去胶液，对和氧化层几乎无损伤，无需中间冲洗，广泛用于半导体功率器件及……
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湖南省衡阳市祁东县光电项目组项目开发年度最佳供应商

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标准浓度高纯显影液是半导体级高纯无金属离子显影液，专为高精度光刻设计，无残胶低污染宽工艺窗口，广泛用……
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适用于低正胶是低光刻机专用超大焦深光刻胶，支持无简化工艺，焦深，专为大台阶差晶圆成熟制程功率器件及量……
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陶氏正胶是陶氏双波段通用光刻胶，无需焦深高达，耐热耐湿法腐蚀，广泛用于混合产线简化工艺大功率器件及光……
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罗门哈斯正胶是罗门哈斯超高产宽光谱光刻胶，支持，覆盖膜厚，染料版适配高反射基底，工艺窗口极宽，广泛用……
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罗门哈斯正胶是罗门哈斯经典宽光谱通用光刻胶，支持宽带曝光，兼容全浓度显影液，工艺窗口宽耐热好，广泛用……
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陶氏染料型光刻胶是陶氏染料型光刻胶，专为高反射基底设计，大幅驻波与缺口，宽工艺窗口耐热好全显影液兼容……
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陶氏正胶是陶氏经典量产型光刻胶，主打成熟制程，前后道通用高反射基底友好，广泛用于逻辑存储芯片功率器件……
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罗门哈斯正胶是罗门哈斯厚膜通用型光刻胶，覆盖膜厚与大尺寸图形，兼容干刻湿刻离子注入，广泛用于中关键层……
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陶氏正胶是陶氏高精度光刻胶，可实现孤立线与密集线加工，焦深达，广泛用于逻辑存储芯片功率器件及高反射基……
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陶氏正胶是陶氏高端量产型光刻胶，主打高精度制程，提供染料版适配高反射基底，广泛用于存储芯片逻辑功率器……
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