- 光电研究所开发光罩制造及光媒介原盘制造正胶AZ P1350
系列光刻胶许总零应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶该光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发，也适用于,,等光盘的制造,,特征在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性许总零在铬称底上拥有高附着性使用安全溶剂参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘秒以上剥
发布日期：2026/5/14 16:56:57 - 黑龙江省佳木斯市东风区半导体产品价格电话
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发布日期：2026/5/14 16:56:04 - 光电研究所专用超超厚高感度正胶AZ MIR950
系列光刻胶许总零厚膜高解像度高感光度线正型光刻胶厚膜，高分辨率高感光度线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺,,特征在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度许总零高对准精度在厚度下可使用显影液参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机曝光后烘烤秒显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等
发布日期：2026/5/14 16:53:53 - 研究所论文厚膜高解像度高感光度I线正胶AZ MIR900
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发布日期：2026/5/14 16:53:38 - 大学论文用中高解像度I线正胶AZ MIR-703
系列光刻胶许总零中高解像度线正型光刻胶高感光度线正型光刻胶，符合和制造过程中高感光度高分辨率的要求特征高感光度带来了高产出率许总零线条与通孔均可应用推荐与的和共同使用参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机曝光后烘烤秒显影秒清洗去离子水秒剥离剥离液及或氧等离子体灰化产品型号深圳市芯泰科光电有限公司光电材
发布日期：2026/5/14 16:52:54 - 研究所论文用中高解像度I线正胶AZ MIR-701
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发布日期：2026/5/14 16:52:37 - 光电研究所高感光度高附着性G线I线正胶AZ GXR-602
系列光刻胶许总零高感光度高附着性线线通用正型光刻胶系列是线线通用高感光度高附着性正型光刻胶，特别符合高产出率的需求特征线，线通用许总零高感光度带来了高产出率通过提高光刻胶的附着性和热稳定性，改善了刻蚀的工艺参考工艺条件前烘秒曝光线线步进式曝光机曝光后烘烤秒显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等
发布日期：2026/5/14 16:51:48 - 研究所高感光度高附着性G线I线通用正胶AZ GXR-601
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发布日期：2026/5/14 16:51:33 - 河北省沧州市运河区微电子材料价格电话
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发布日期：2026/5/14 16:51:07 - 光电研究所超高分辨率沟槽图案KrF正胶AZ DX2546P
系列光刻胶许总零应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶超高分辨率正型光刻胶，为沟槽及通孔图形优化,特征高分辨率，大焦深适用于光罩和普通光罩许总零适用于各种衬底参考工艺条件前烘秒曝光步进式曝光机曝光后烘烤秒显影秒清洗去离子水秒剥离剥离液及或氧等离子体灰化产品型号深圳市芯泰科光电有限公司光电材料微电
发布日期：2026/5/14 16:50:26