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无溶剂型紫外纳米压印光刻是无溶剂折射率的固化材料，专为紫外纳米压印设计，中厚膜成型无收缩耐热，广泛用于微纳光学微流控及柔性器件制造。核心应用场景紫外纳米压印核心许总微米纳米光栅衍射结构微凹槽阵列无溶剂无收缩无气泡图形精度极高专做中厚膜结构微纳光学元件衍射光学元件微透镜阵列微棱镜照明成像显示用光学薄膜
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纳米复合结构高折射率光刻胶是纳米复合体系折射率的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，超高折射率高透明低固化剂量，广泛用于光栅光波导超构表面光子晶体与高性能光电器件制造。核心应用场景紫外纳米压印光刻核心许总纳米光栅光子晶体超构表面耦合结构可见光近红外高精度纳米光学元件折射率实现更强光束缚更率衍射光波
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纳米压印光刻胶是纳米复合体系折射率的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，高透明低固化剂量超高折射率，广泛用于光栅光波导超构表面光子晶体与光电器件制造。核心应用场景紫外纳米压印光刻核心许总纳米光栅光子晶体超构表面耦合光栅高深宽比纳米级高精度光学结构超高折射率大幅提升光控制能力衍射光学元件阵列光波导耦
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纳米压印胶是纯有机无填料高折射率的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，高透明低散射，广泛用于纳米光学光子晶体光波导光栅与光电器件制造。核心应用场景紫外纳米压印光刻核心许总纳米光栅光子晶体超表面结构波导耦合器谐振腔等高精密光学元件无纳米填料低散射高透明表面更光滑微纳光学元件制造可见光近红外高折射率光
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